第168章 光刻机新进展
作者:喜欢甜竹的红平   芯动重生之途最新章节     
    天宇科技被突如其来的订单推动着高速运转。那仅有的三套光刻机生产线,如同瓶颈一般,制约着芯片生产的规模与速度。林宇再次踏入姜老的实验室,心中满是对光刻机技术进展的期待。
    实验室里一如既往地弥漫着严谨而专注的氛围。各种仪器设备发出轻微的嗡嗡声,仿佛在诉说着研发工作的紧张与忙碌。姜老正站在一块巨大的白板前,上面画满了复杂的光路图和技术参数,他正和几位年轻的研究员热烈地讨论着。
    看到林宇进来,姜老脸上露出一丝欣慰的笑容:“林总,你又来关心光刻机的进展了。”
    林宇急切地回应道:“姜老,这订单压力实在太大了,光刻机的产量直接关系到我们能否按时交付产品啊。上次那100纳米光刻机技术现在进展得怎么样了?”
    姜老放下手中的笔,带着林宇走到一台大型设备前。这台设备被各种线缆和防护装置包裹着,看起来充满了科技感。
    “林总,你看,自从上次你来过后,我们在100纳米光刻机技术上又取得了不少关键的进展。”姜老一边说,一边示意助手打开设备的展示模式。
    设备的显示屏上开始出现各种数据和模拟动画。姜老指着屏幕上的一个部件模型解释道:“这是我们重新设计的光刻镜头,在你给我们的技术基础上,我们进一步优化了镜头的光学结构。现在这个镜头的数值孔径提高了不少,能够更有效地收集和聚焦光线,这对于提高光刻分辨率至关重要。”
    林宇看着屏幕上复杂的结构模型,心中满是惊喜:“姜老,这看起来很了不起啊。那这个镜头在实际测试中的表现如何呢?”
    姜老微微一笑,带着林宇来到一个测试间。测试间里,一台小型的光刻实验设备正在运行。透过观察窗,可以看到微弱的光线在芯片样本上精确地刻蚀着微小的电路图案。
    “林总,我们已经进行了多次实际测试。这个新镜头在100纳米尺度下的光刻精度已经非常稳定了。它能够清晰地刻出复杂的电路结构,而且在不同的芯片材料上都表现出了良好的适应性。”姜老自豪地说道。
    林宇心中的一块大石头落了地:“姜老,这真是个好消息。那euv光源的稳定性问题呢?上次您提到这个是一个关键的挑战。”
    姜老的表情变得严肃起来:“林总,euv光源的稳定性我们也有了很大的改善。你还记得上次我们调整了光源的激发频率和能量输入方式吗?在那之后,我们又对光源的内部结构进行了优化。”
    姜老带着林宇来到一个单独的房间,里面摆放着一个巨大的euv光源装置。装置周围布满了各种监测仪器,数据在屏幕上不断跳动。
    “我们改进了euv光源的等离子体产生机制,通过精确控制电子的注入和磁场的约束,使得等离子体的稳定性大大提高。现在,euv光源的输出功率波动已经控制在一个非常小的范围内,基本能够满足长时间光刻的需求。”姜老详细地介绍着。
    林宇仔细观察着仪器上的数据,脸上露出了满意的笑容:“姜老,您和您的团队真是太厉害了。这对我们公司来说是一个巨大的突破。”
    姜老摆摆手:“林总,先别高兴得太早。虽然我们在这些关键部件上取得了进展,但整个光刻机系统还有一些问题需要解决。”
    林宇心中一紧:“姜老,还有什么问题呢?”
    姜老带着林宇回到白板前,指着白板上的一些电路图和控制系统图说道:“林总,你看,目前我们的光刻机控制系统还不够智能化。在光刻过程中,需要实时监测和调整的参数非常多,比如光刻胶的曝光剂量、工作台的移动速度、光源的功率等等。我们现有的控制系统在处理这些复杂的参数时,响应速度和精度还有待提高。”
    “姜老,我仔细思考过您之前提到的光刻机控制系统的问题。我有一些想法,或许能够对其进行优化。”林宇自信地说道。
    姜老眼睛一亮:“林总,那你快说说看。”
    林宇走到白板前,拿起笔开始画图讲解。“目前控制系统在处理多个复杂参数时响应速度和精度不足,我们可以从架构上进行重新设计。首先,采用分层式的控制系统架构,将整个系统分为感知层、决策层和执行层。”
    林宇在白板上画出简单的架构图,继续解释道:“感知层负责实时收集光刻过程中的各种参数,如光刻胶的曝光剂量、工作台的移动速度、光源的功率等。我们可以采用更先进的传感器技术,提高参数采集的精度和频率。”
    一位年轻的研究员问道:“林总,那目前的传感器技术可能无法满足这么高的要求,我们需要重新研发吗?”
    林宇微笑着回答:“我们不需要完全重新研发。可以对现有的传感器进行改进,通过优化传感器的材料和结构来提高性能。我知道有一些新型的半导体材料在传感器应用方面有很大的潜力,我们可以尝试将其引入。”
    姜老点头表示赞同:“这个想法很新颖,继续说下去,林总。”
    林宇接着说:“决策层是控制系统的核心部分。在这里,我们需要引入先进的算法来处理感知层传来的大量数据。我建议采用人工智能算法中的神经网络算法,它具有很强的自学习和自适应能力。通过对大量光刻数据的学习,能够快速准确地做出决策,调整各个参数。”
    听到人工智能算法,大家都露出了惊讶的表情。在1991年,人工智能还是一个相对新兴的概念。
    “林总,人工智能算法在这个领域的应用还很少见,我们是否有足够的技术支持呢?”另一位研究员担忧地问道。
    林宇解释道:“虽然目前应用较少,但我们可以从基础开始构建。我可以提供一些算法的基本框架和思路,然后我们的技术团队再根据光刻机的实际情况进行优化。而且,我相信随着我们的探索和研究,这个算法会在控制系统中发挥巨大的作用。”
    “那执行层呢?林总。”姜老问道。
    林宇在架构图上指着执行层部分说:“执行层负责将决策层做出的指令准确地转化为实际的操作。我们要提高执行层的响应速度和准确性,可以采用高速的信号传输技术和精密的执行元件。比如,优化电路设计,减少信号传输的延迟,同时选用高精度的电机和驱动器来控制工作台的移动。”
    姜老沉思片刻后说:“林总,你的这个架构设计看起来很有潜力。但是要实现这个架构,我们还面临很多技术难题。比如,神经网络算法的训练需要大量的数据和计算资源,我们目前的设备可能无法满足。”
    林宇早有准备:“姜老,这确实是个问题。我们可以分阶段进行。首先,利用现有的数据建立一个简化版的神经网络模型,进行初步的测试和优化。同时,我们可以申请购置一些更先进的计算设备,用于后续的大规模数据训练。另外,我们也可以和一些高校或者研究机构合作,共享计算资源。”
    在讨论完架构设计后,林宇又提出了关于提高系统可靠性的想法。
    “为了提高系统的可靠性,我们可以引入冗余设计。在关键的部件和线路上,增加备份设备和线路。这样,当某个部件出现故障时,备份能够及时接替工作,不会影响整个光刻过程。”
    姜老对这个想法非常认可:“林总,冗余设计在这种高精度的设备中非常重要。这可以大大减少因故障导致的生产中断时间。”
    接下来的一整天,林宇和姜老的团队成员们一起深入讨论每个细节。从传感器的选型到算法的具体实现,从执行元件的参数到冗余设计的布局,每一个环节都经过了细致的分析和论证。
    在讨论过程中,林宇还分享了前世一些成功的案例和失败的教训。这些宝贵的经验让团队成员们受益匪浅,他们从中学到了很多书本上没有的知识。
    随着时间的推移,大家对林宇提出的优化方案越来越有信心。虽然知道前方还有很多困难需要克服,但每个人都充满了斗志。
    “林总,今天真是收获颇丰啊。你的这些想法为我们打开了新的思路。接下来,我们就按照这个方案开始着手优化工作吧。”姜老充满干劲地说。
    林宇看着大家充满热情的样子,心中也充满了希望:“姜老,大家都很辛苦。希望我们能够尽快实现光刻机控制系统的优化,让我们的100纳米光刻机早日投入生产。”